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產(chǎn)品資料
顆粒元素分析系統(tǒng)
型號(hào):CIS-LIBS。particle 異物的深入分析,適用行業(yè):汽車、航空、電池、油液等,可實(shí)現(xiàn)一鍵多顆粒元素自動(dòng)分析。
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3142
產(chǎn)品概覽
技術(shù)規(guī)格
申請(qǐng)演示
CIS-LIBS元素分析流程
只需一臺(tái)即可完成
只需一臺(tái)即可快速執(zhí)行從放大觀察到元素判別
要進(jìn)行元素判別的人員可當(dāng)場(chǎng)進(jìn)行作業(yè)
無(wú)需預(yù)處理
對(duì)目標(biāo)物尺寸沒有限制,無(wú)需破壞也可直接分析
在空氣中進(jìn)行分析,無(wú)需進(jìn)行導(dǎo)電性處理及真空處理
輕松進(jìn)行元素判別
使用顯微系統(tǒng)觀察的同時(shí),一鍵點(diǎn)擊即可進(jìn)行元素判
根據(jù)內(nèi)部數(shù)據(jù)庫(kù), 瞬時(shí)推測(cè)檢測(cè)物質(zhì)
空氣中一鍵元素分析
工作原理
(1)
(2)
(3)
(4)
(5)
紫外激光轟擊 顆粒表面
顆粒表面全部元素電離, 復(fù)合產(chǎn)生離子發(fā)光
光譜儀捕捉光并分波段識(shí)別
內(nèi)部數(shù)據(jù)庫(kù)自動(dòng)匹配 元素及含量
生成顆粒材質(zhì)報(bào)告
型號(hào)
CIS-LIBS
LIBS光學(xué)模塊
檢測(cè)原理
激光誘導(dǎo)擊穿光譜法
檢測(cè)性質(zhì)
定性及半定量
檢測(cè)能力
%水平(取決于元素)
檢測(cè)環(huán)境要求
無(wú),分析在大氣條件下進(jìn)行
對(duì)應(yīng)元素
Cu、Al、SUS、Fe、Li、C、Cr 、Mg、 Mn、 Ni、Ti、Y、Zn 、Au等常見元素
激光
激光類型
Nd:YAG(半導(dǎo)體泵浦)
激光波長(zhǎng)
355nm
單脈沖能量
<100μJ
脈沖寬度
1.5ns
點(diǎn)規(guī)格
15um(typ.)
燒蝕深度
1-10um(取決于材料)
光譜儀
光譜范圍
200至780nm
光譜分辨率
0.15nm
信噪比
500:1
探測(cè)器
CMOS探測(cè)器
激光鏡頭
鏡頭類型
專屬規(guī)格透射型鏡頭
鏡頭倍數(shù)
7X
工作距離
18mm
掃描光學(xué)模塊
入射光軸
相差觀察方法
奧林巴斯BX53M, BF明場(chǎng)照明
物鏡
5X,10X,20X,50X(可選)
照明
大功率數(shù)字LED,軟件可控,帶記憶模式
偏光系統(tǒng)
偏光0°與偏光90°自動(dòng)數(shù)字切換,帶記憶模式
數(shù)字成像
相機(jī)型號(hào)
DFK33UX249
相機(jī)分辨率
1920X1200 (2.3mp)
相機(jī)靶面
1/1.2英寸
幀速
48FPS
掃描載物臺(tái)
載物臺(tái)方向
XYZ三軸
行程范圍
XY 軸125X75mm,Z軸35mm
分辨率
0.1um(軟件控制)
精度
<5μm
控制方式
軟件自動(dòng)控制+遙桿細(xì)分控制
生成報(bào)告
生成方式
自動(dòng)生成
報(bào)告內(nèi)容
單顆粒材質(zhì)專業(yè)報(bào)告
全顆粒材質(zhì)專業(yè)報(bào)告
電腦
I5處理器,16G內(nèi)存,硬盤1TB,顯示器22寸
設(shè)備電源
供電方式
AC 220V 50Hz
保修期
整機(jī)12個(gè)月
耐環(huán)境性
使用環(huán)境溫度
使用環(huán)境濕度
重量
系統(tǒng)
約50KG
外形尺寸
寬度490mm x高度600mm x縱深840mm
產(chǎn)品導(dǎo)航
測(cè)量顯微鏡
工具顯微鏡
測(cè)量顯微鏡
清潔度萃取設(shè)備
自動(dòng)清潔度萃取設(shè)備
便捷式清潔度清洗萃取設(shè)備
清潔度清洗機(jī)
顯微自動(dòng)檢測(cè)系統(tǒng)
顆粒元素分析系統(tǒng)
奧林巴斯清潔度檢測(cè)系統(tǒng)
自動(dòng)清潔度分析系統(tǒng)
自動(dòng)清潔度檢測(cè)系統(tǒng)
清潔度顆粒分析系統(tǒng)
清潔度附件
清潔度顆粒檢測(cè)捕捉器
清潔度測(cè)試儀附件
聯(lián)系方式
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