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奧林巴斯CIX100檢測(cè)系統(tǒng)：簡(jiǎn)化技術(shù)清潔度

保證部件、工件和流體具有合格的清潔度是制造過(guò)程的核心所在。在對(duì)大多為微米級(jí)尺寸的污染物和異物進(jìn)行計(jì)數(shù)、分析和分類(lèi)的過(guò)程中達(dá)到高標(biāo)準(zhǔn)，對(duì)于*終產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)、制造、生產(chǎn)和質(zhì)量控制等各種工作流程都至關(guān)重要。各種國(guó)際和國(guó)家指令對(duì)于如何確定基本加工零件上顆粒污染的方法和記錄要求都有描述，因?yàn)轭w粒污染會(huì)直接影響工件和部件的使用壽命。目前的標(biāo)準(zhǔn)要求提供有關(guān)污染性質(zhì)的詳細(xì)信息，如顆粒的數(shù)量、粒度分布和顆粒特性。
奧林巴斯CIX100清潔度檢測(cè)系統(tǒng)旨在滿足現(xiàn)代工業(yè)以及國(guó)家和國(guó)際指令對(duì)清潔度的要求。

標(biāo)準(zhǔn)的清潔度檢測(cè)流程：準(zhǔn)備（第1-3步）和檢測(cè)（第4-6步）。第1步：提取，第2步：過(guò)濾，第3步：稱(chēng)重，第4步：檢測(cè)，第5步：審核，第6步：結(jié)果。

                                               

簡(jiǎn)單、可靠

硬件和軟件無(wú)縫集成，打造出一款可以提供可靠、準(zhǔn)確數(shù)據(jù)的耐用型高效率系統(tǒng)。
· 易于設(shè)置的自動(dòng)化、交鑰匙解決方案
· 穩(wěn)定的測(cè)量系統(tǒng)設(shè)置有利于提供可重復(fù)的結(jié)果
· 卓 越的光學(xué)性能和可再現(xiàn)的成像條件
· 自動(dòng)化系統(tǒng)通過(guò)集成的校準(zhǔn)裝置進(jìn)行自檢
· 全系統(tǒng)集成，實(shí)現(xiàn)所有硬件部件的自動(dòng)化控制
· 支持各種圓形和矩形樣品架

     

通過(guò)直觀的指導(dǎo)提高生產(chǎn)力

· 專(zhuān)用、簡(jiǎn)單的工作流程可*大限度地減少用戶(hù)操作，并提供可靠的數(shù)據(jù) - 與操作員和經(jīng)驗(yàn)水平無(wú)關(guān)
· 借助便于使用的工具輕松修改檢測(cè)數(shù)據(jù)
· 分步指導(dǎo)可提高生產(chǎn)率，并縮短檢測(cè)時(shí)間
· 用戶(hù)權(quán)限管理可限制功能，以盡量減少人為錯(cuò)誤
· 觸摸屏顯示大尺寸按鈕，容易點(diǎn)擊
· 符合要求的一鍵式報(bào)告，實(shí)現(xiàn)高效的文件記錄
· 所有數(shù)據(jù)均自動(dòng)保存，并可輕松導(dǎo)出和共享
· 采用可選材料分析解決方案的獨(dú)立顯微鏡模式

快速實(shí)時(shí)分析

創(chuàng) 新的一體化掃描解決方案檢測(cè)反光（金屬）和非反光顆粒的速度是需要兩幅獨(dú)立圖像的傳統(tǒng)方法的兩倍。即時(shí)反饋顆粒計(jì)數(shù)和顆粒分類(lèi)的信息可幫助您快速做出決策。

· 用于快速識(shí)別濾膜范圍、顆粒簇或*差粒子的概覽圖像

· 對(duì)2.5 μm至42 mm范圍內(nèi)的污染物顆粒進(jìn)行自動(dòng)實(shí)時(shí)處理和分類(lèi)

· 高效：系統(tǒng)在一次掃描中檢測(cè)反光和非反光顆粒

· 實(shí)時(shí)分析使您能對(duì)結(jié)果做出實(shí)時(shí)反應(yīng)

· 可根據(jù)選定的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)定制符合要求的結(jié)果

有效的數(shù)據(jù)評(píng)估

借助強(qiáng)大的、易于使用的工具修改檢測(cè)數(shù)據(jù)，支持公司和國(guó)際清潔度檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)。清晰呈現(xiàn)所有相關(guān)的檢測(cè)結(jié)果，節(jié)省時(shí)間。

· 圖像和數(shù)據(jù)的有組織排列，使數(shù)據(jù)審核效率更高

· 可選擇各種視圖，立即識(shí)別顆粒

· 顆粒位置和縮略圖鏈接到實(shí)時(shí)圖像

· 輕松地對(duì)檢測(cè)數(shù)據(jù)進(jìn)行重新分類(lèi)、審核、修改和重新計(jì)算

· 實(shí)時(shí)顯示整體清潔度代碼、顆粒和分類(lèi)表

· 趨勢(shì)分析，以確定隨時(shí)間推移而出現(xiàn)的潛在的測(cè)量偏差

· 在一個(gè)視圖中顯示完整的檢測(cè)數(shù)據(jù)

一鍵式報(bào)告制作方式符合國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)中闡述的要求和方法。報(bào)告可以定制（例如，包括顆粒形態(tài)），從而可輕松滿足不同公司的特定標(biāo)準(zhǔn)。使用預(yù)定義的合規(guī)模板生成專(zhuān)業(yè)報(bào)告。